PECVD管式炉的主要特点：
1.气体预热——增加前端气体预热区，沉积速度更快，成膜效果更好；
2.AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——科探AIO控制系统；
3.管内压力自动平衡——管内压力实时监测，自动平衡管内压力。
4.智能气路通断——每路气体均可定时通断，省时省力；
5.射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行；
6.炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离；
7.整机结构融为一体——移动方便，避免分散组装的困扰。
PECVD管式炉的使用注意事项：
炉管内气压不可高于0.02MPa。
由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议选购减压阀，使用时会更加安全。
当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态。
进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击。
石英管的长时间使用温度＜1100℃。
对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生。
